2. Дифракція Фраунгофера

 

Дифракцією Фраунгофера називається дифракція плоских хвиль. Дифракція Фраунгофера має більше практичне значення, ніж дифракція Френеля (дифракція сферичних хвиль).

Розглянемо довгу прямокутну щілину BС шириною b, на яку нормально падає паралельний пучок монохроматич- ного світла (мал.5.10). Згідно з принципом Гюйгенса-Френеля, точки щілини являються когерентними вторинними джерелами, що коливаються в одній фазі (площина щілини співпадає з фронтом хвилі).

За допомогою лінзи Л на екрані Е спостерігається дифракційна картина, яка являє собою систему максимумів і мінімумів. Знайдемо умови спостереження максимумів і мінімумів. Для цього розіб’ємо фронт хвилі ВС на зони Френеля таким чином, щоб оптична різниця ходу від країв сусідніх зон у певному напрямку поширення дифрагованої хвилі під кутом дифракції  складала половину довжини хвилі  З мал.5.10 видно, що ширина зони Френеля дорівнює  Якщо число зон парне, тобто

 (m1,2,3,…), (5.27)

то під кутом  спостерігається дифракційний мінімум. Випромінювання відповідних точок сусідніх зон відбувається у протифазі, через те сусідні зони гасять одна одну.

Якщо число зон непарне, тобто

, (m1, 2, 3, …), (5.28)

то спостерігається дифракційний максимум, який відповідає дії однієї нескомпенсованої зони Френеля. Величина m називається порядком дифракційного максимуму.

Амплітуда хвилі в точці спостереження одержується на основі принципу Гюйгенса-Френеля:

 (5.29)

де – амплітуда в центрі дифракційної картини при

Розподіл інтенсивностей :

 (5.30)

Цей розподіл показаний на мал.5.11.

Перейдемо до дифракції на одномірній дифракційній решітці, яка являє собою систему N однакових паралельних щілин шириною а, розміщених на однакових відстанях b. Величина d=a+b називається періодом решітки. Сучасна дифракційна решітка має до 1200 щілин (штрихів) на 1 мм.

Дифракційна картина після решітки складніша порівняно з картиною від однієї щілини. Це зумовлене тим, що відбувається інтерференція хвиль, які йдуть від різних щілин решітки. Крім того, має місце підсилення максимумів і їх звуження.

Якщо світло падає нормально на решітку, то виконуються слідуючі умови:

для головних максимумів:  (m0, 1, 2, …); (5.31)

для головних мінімумів:  (n1, 2, 3, …); (5.32)

для додаткових мінімумів:  (5.33)

(k–довільні цілі додатні числа крім 0, N, 2N, 3N, …).

Розподіл інтенсивності на екрані спостереження:

  (5.34)

де –інтенсивність в напрямку  для однієї щілини. В головних максимумах інтенсивність в  разів більша, ніж дає у відповідних місцях щілина. При великому значенні N вторинні максимуми майже непомітні на екрані, їх інтенсивність не більша 5% від інтенсивності головного максимуму.

На мал.5.12 показана дифракційна картина після дифракційної решітки в білому ( світлі (вторинні максимуми не зображені).

З умови головних максимумів випливає, що для всіх порядків, крім m, біле світло розкладається в спектр. Тому дифракційна решітка використовується як диспергуючий елемент в спектрометрах.

Важливою характеристикою оптичних приладів є їхня роздільна здатність. Згідно з критерієм Релея, зображення двох близьких точок можна вважати розділеними, якщо центральний дифракційний максимум від однієї точки співпадає з першим дифракційним мінімумом для другої точки.

Для об’єктива роздільна здатність

 (5.35)

де D – діаметр об’єктива,  – довжина хвилі світла.

Мірою роздільної здатності дифракційної решітки (спектрального приладу) прийнято вважати відношення довжини хвилі  біля якої виконується вимірювання до мінімального роздільного інтервалу  тобто  Користуючись критерієм Релея, можна показати, що

 (5.36)

де m – порядок спектру, N – кількість щілин дифракційної решітки.



Информация о работе «Фізика напівпровідників»
Раздел: Физика
Количество знаков с пробелами: 146177
Количество таблиц: 1
Количество изображений: 7

Похожие работы

Скачать
97790
2
0

... параметрів при термоциклюванні, а саме ця особливість є принциповою для практичного використання. Перспективними для вирішення проблеми деградації об’ємних матеріалів з ФПМН є склокерамічні матеріали на основі компонента з фазовим переходом метал-напівпровідник. Такі матеріали можна отримати за керамічною технологією. Важливою вимогою до них, окрім стабільної поведінки при термоциклюванні, є ...

Скачать
44205
3
12

... ій зоні. Для тіл, у яких ширина забороненої зони не перевищує 1 еВ, уже при кімнатній температурі в зоні провідності виявляється достатнє число електронів, а у валентній зоні – вакансій, щоб обумовити відносно високу електропровідність. Такі тіла звичайно називають напівпровідниками. Звідси стає ясним, що розподіл твердих тіл другої групи, на діелектрики й напівпровідників є чисто умовним. У ...

Скачать
54900
0
4

... заряджені дефекти впливають також на матричні елементи для переходів між нелокалізованими станами поблизу країв рухливості, створюючи флуктуації потенціалу. РОЗДІЛ 2 ФОТОІНДУКОВАНІ ЗМІНИ ОПТИЧНИХ ПАРАМЕТРІВ ТОНКИХ ШАРІВ НЕКРИСТАЛІЧНИХ ХАЛЬКОГЕНІДІВ   2.1. Структурні одиниці та фізико-хіміні особливості некристалічних халькогенідів   Структура склоподібних і аморфних халькогенідів може бути ...

Скачать
19744
0
41

... Висновки. Одним з перспективних напрямків сучасної фізики є дослідження поверхні твердого тіла та взаємодії поверхневих електромагнітних хвиль інфрачервоного діапазону з поверхнею та тонкими шарами напівпровідників . При взаємодії світлової хвилі з поверхнею твердого тіла виникає поверхнева електромагнітна хвиля. Квазічастинки, які відповідають цим коливанням, що мають змішаний електромагнітно- ...

0 комментариев


Наверх